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综合馆
H2O2处理对于ZnO薄膜性能的影响
  • 摘要

    本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响.采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD表征薄膜的结晶情况,用SEM表征ZnO薄膜材料的表面形貌.结果表明经3%浓度的H2O2处理10s的ZnO薄膜缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大.利用H2O2处理可以降低ZnO薄膜的缺陷态,提高了其在应用中的电学稳定性.

  • 作者

    李博  高晓红  张文通  王天宇  金宝昌 

  • 作者单位

    吉林建筑大学电气与计算机学院,吉林长春,130114

  • 刊期

    2019年8期

  • 关键词

    射频磁控溅射  ZnO薄膜  H2O2处理 

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3.227.249.234